[发明专利]一种二硅化钼基电热元件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110051906.2 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN102173814A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 郜剑英;郑国军 申请(专利权)人: 郑州嵩山电热元件有限公司
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/622;C04B35/63
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 王聚才
地址: 452483 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明属于高温材料领域,特别涉及了一种二硅化钼基电热元件及其制备方法。所述电热元件由下述质量百分含量的各原料制成:成型结合剂3~6%、改性添加剂1~3%,余量为基体材料;所述基体材料为钼硅质量比为61:39的自蔓延燃烧合成的二硅化钼粉体,成型结合剂为钠基膨润土或钙基膨润土,改性添加剂为氧化铝、氧化镁、氧化铅、氧化钡、三氧化二硼、氟化钙之中的一种或两种以上的组合。本发明电热元件表面膜厚度为15~20μm,密度≥5.6g/cm3,热端的平均强度不低于300MPa,冷热端焊口部位平均强度不低于250MPa,循环使用寿命可达50,000次循环以上。
搜索关键词: 一种 二硅化钼基 电热 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种二硅化钼基电热元件,其特征在于所述电热元件由下述质量百分含量的各原料制成:成型结合剂 3~6%、改性添加剂 1~3%,余量为基体材料;所述基体材料为钼硅质量比为61:39的自蔓延燃烧合成的二硅化钼粉体,成型结合剂为钠基膨润土或钙基膨润土,改性添加剂为氧化铝、氧化镁、氧化铅、氧化钡、三氧化二硼、氟化钙之中的一种或两种以上的组合。
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