[发明专利]形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法无效
申请号: | 201110052417.9 | 申请日: | 2011-03-04 |
公开(公告)号: | CN102653190A | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 韩宝航;王涛;吴冲;周鼎;承倩怡;孙树清 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | B41M1/12 | 分类号: | B41M1/12 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 王崇;王凤桐 |
地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种形成石墨烯氧化物图案及其石墨烯图案的方法,该方法按照以下(A)和(B)两种方式之一进行:(A)将石墨烯氧化物溶液与图案化聚二甲氧基硅烷印章接触1-500min,干燥;然后将干燥后的图案化聚二甲氧基硅烷印章与基底在外力为0-5N的条件下接触1-500min,移开印章,从而在基底上形成石墨烯氧化物图案;(B)将图案化聚二甲氧基硅烷印章与连接剂接触,然后与基底在外力为0-5N的条件下接触,移开印章,得到接触后的基底;将接触后的基底与石墨烯氧化物溶液接触,干燥,从而在基底上形成石墨烯氧化物图案。本发明的方法成本低廉,操作过程简单,开拓了新的形成石墨烯氧化物图案的方法。 | ||
搜索关键词: | 形成 石墨 氧化物 图案 方法 | ||
【主权项】:
一种形成石墨烯氧化物图案的方法,该方法按照以下(A)和(B)两种方式之一进行:(A)将石墨烯氧化物溶液与图案化聚二甲氧基硅烷印章接触,干燥;然后将干燥后的图案化聚二甲氧基硅烷印章与基底在外力为0‑5N的条件下接触1‑500min,移开印章,从而在基底上形成石墨烯氧化物图案;(B)将图案化聚二甲氧基硅烷印章与连接剂接触,然后与基底在外力为0‑5N的条件下接触1‑500min,移开印章,得到接触后的基底;将接触后的基底与石墨烯氧化物溶液接触,干燥,从而在基底上形成石墨烯氧化物图案;其中,所述连接剂为3‑氨丙基三乙氧基硅烷的乙醇和/或水溶液、聚醚酰亚胺水溶液、巯基胺水溶液、3‑氨基丙烷‑1‑磷酸水溶液、2‑氨基乙烷‑1‑磷酸水和/或乙醇溶液以及4‑氨基丁烷‑1‑磷酸水和/或乙醇溶液中的一种或多种。
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