[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201110054175.7 | 申请日： | 2008-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN102163530A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 松浦广行;高桥俊树;福岛讲平 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/509;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置，对多个被处理体同时实施等离子体处理的立式等离子体处理装置，具备使处理气体等离子体化的活性化机构。活性化机构包括：对应于处理区域安装在处理容器上、且形成与处理区域气密地连通的等离子体生成区域的纵长的等离子体生成箱；配设于等离子体生成箱的ICP电极；和与电极连接的高频电源。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，对被处理体实施等离子体处理，其特征在于，包括：能够抽真空的圆筒状的处理容器；保持多个被处理体向所述处理容器内插拔的保持单元；向所述处理容器内供给气体的气体供给单元；和利用等离子体使所述气体活性化的活性化单元，其中，所述活性化单元由沿所述处理容器的长边方向配设的等离子体生成箱、沿所述等离子体生成箱配设的电感耦合型的电极、和连接到所述电感耦合型的电极的高频电源构成。
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