[发明专利]光刻设备和方法有效
| 申请号： | 201110060027.6 | 申请日： | 2011-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN102193332A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | N·坦凯特;J·J·奥腾斯;B·A·W·H·柯拿伦;R·J·伍德;G·F·尼诺;M·J·里米;J·H·W·雅各布斯;T·S·M·劳伦特;J·G·C·昆尼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻投影设备，包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底，所述衬底台包括邻近衬底支撑区域的中心部分的多个加热器和/或温度传感器，所述多个加热器和/或温度传感器是细长的。
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