[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110061712.0 申请日: 2011-03-15
公开(公告)号: CN102194718A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 林耀剑;陈康;方建敏;X·冯 申请(专利权)人: 新科金朋有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L21/768;H01L23/522
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李娜;蒋骏
地址: 新加坡*** 国省代码: 新加坡;SG
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体器件及其制造方法。一种半导体晶片具有多个第一半导体管芯。第一导电层形成在所述管芯的有源表面上。第一绝缘层形成在所述有源表面和第一导电层上。再钝化层形成在第一绝缘层和第一导电层上。形成通过再钝化层至第一导电层的通路。所述半导体晶片被单体化以分离半导体管芯。半导体管芯被安装到临时载体。在半导体管芯和载体上沉积密封剂。除去载体。第二绝缘层形成在再钝化层和密封剂上。第二导电层形成在再钝化层和第一导电层上。第三绝缘层形成在第二导电层和第二绝缘层上。互连结构形成在第二导电层上。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种制造半导体器件的方法,包括:提供具有多个半导体管芯的半导体晶片,每个半导体管芯具有有源表面;在有源表面上形成第一导电层;在有源表面和第一导电层上形成第一绝缘层;在第一绝缘层和第一导电层上形成再钝化层;形成通过再钝化层延伸到第一导电层的通路;将半导体晶片单体化以分离半导体管芯;在半导体管芯上沉积密封剂;在再钝化层和密封剂上形成第二绝缘层;在再钝化层和第一导电层上形成第二导电层;以及在第二导电层和第二绝缘层上形成第三绝缘层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新科金朋有限公司,未经新科金朋有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110061712.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top