[发明专利]半导体器件及其制造方法有效
申请号: | 201110061712.0 | 申请日: | 2011-03-15 |
公开(公告)号: | CN102194718A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 林耀剑;陈康;方建敏;X·冯 | 申请(专利权)人: | 新科金朋有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/768;H01L23/522 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李娜;蒋骏 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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摘要: | 本发明涉及半导体器件及其制造方法。一种半导体晶片具有多个第一半导体管芯。第一导电层形成在所述管芯的有源表面上。第一绝缘层形成在所述有源表面和第一导电层上。再钝化层形成在第一绝缘层和第一导电层上。形成通过再钝化层至第一导电层的通路。所述半导体晶片被单体化以分离半导体管芯。半导体管芯被安装到临时载体。在半导体管芯和载体上沉积密封剂。除去载体。第二绝缘层形成在再钝化层和密封剂上。第二导电层形成在再钝化层和第一导电层上。第三绝缘层形成在第二导电层和第二绝缘层上。互连结构形成在第二导电层上。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种制造半导体器件的方法,包括:提供具有多个半导体管芯的半导体晶片,每个半导体管芯具有有源表面;在有源表面上形成第一导电层;在有源表面和第一导电层上形成第一绝缘层;在第一绝缘层和第一导电层上形成再钝化层;形成通过再钝化层延伸到第一导电层的通路;将半导体晶片单体化以分离半导体管芯;在半导体管芯上沉积密封剂;在再钝化层和密封剂上形成第二绝缘层;在再钝化层和第一导电层上形成第二导电层;以及在第二导电层和第二绝缘层上形成第三绝缘层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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