[发明专利]滤光器的制造方法、分析设备及光设备无效
| 申请号： | 201110064934.8 | 申请日： | 2011-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN102193185A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 山崎成二 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00;G01J3/46 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的滤光器的制造方法是在形成有第1反射膜的第1基板的第1接合区域形成第1接合膜，在形成有第2反射膜的第2基板的第2接合区域形成第2接合膜，隔着第1掩模部件向第1接合膜照射臭氧或紫外线，隔着第2掩模部件向第2接合膜照射臭氧或紫外线，接合第1接合膜与第2接合膜而使第1基板与第2基板粘贴，从而在制造时保护反射膜免受臭氧或紫外线的影响，抑制反射膜的恶化。 | ||
| 搜索关键词： | 滤光 制造 方法 分析 设备 | ||
【主权项】：
一种滤光器的制造方法，其特征在于，包括：准备第1基板的工序，所述第1基板具有第1反射膜、和位于所述第1反射膜周围的第1接合区域，在所述第1反射膜形成第1阻隔膜，并在所述第1接合区域形成第1接合膜的工序，准备第2基板的工序，所述第2基板具有第2反射膜、和位于所述第2反射膜周围的第2接合区域，在所述第2反射膜形成第2阻隔膜，并在所述第2接合区域形成第2接合膜的工序，隔着第1掩模部件，向所述第1接合膜照射臭氧或紫外线的第1照射工序，隔着第2掩模部件，向所述第2接合膜照射臭氧或紫外线的第2照射工序，和接合所述第1接合膜与所述第2接合膜而使所述第1基板与所述第2基板粘贴的工序；在所述第1照射工序中，第1掩模部件在所述第1接合区域的上方具有第1开口部，所述第1掩模部件的一部分位于所述第1反射膜的上方。
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