[发明专利]一种电源过压保护结构及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110068177.1 申请日: 2011-03-21
公开(公告)号: CN102157546A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 吴炜 申请(专利权)人: 中颖电子股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L27/02;H01L21/265;H01L21/822
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 200335 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种电源过压保护结构,该结构包括至少两个并联的电源过压保护单元,所述每个电源过压保护单元通过在P型阱区与N型重掺杂区的交界处形成一PESD注入区,从而使得所述P型阱区与所述N型重掺杂区所形成的二极管的崩溃电压略高于电源电压,但又比现有的缓冲器件的崩溃电压低,因此在电源过压时,能有效地保护集成电路芯片不被损坏;同时本发明还公开了一种电源过压保护结构的制备方法,该方法通过在P型阱区与N型重掺杂区的交界处形成一PESD注入区,从而使得所述P型阱区与所述N型重掺杂区所形成的二极管的崩溃电压略高于电源电压,但又比现有的缓冲器件的崩溃电压低,因此在电源过压时,能有效地保护集成电路芯片不被损坏。
搜索关键词: 一种 电源 保护 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种电源过压保护结构,其特征在于,包括至少两个并联的电源过压保护单元,所述每个电源过压保护单元包括:半导体衬底;P型阱区,形成于所述半导体衬底内;N型重掺杂区,形成于所述P型阱区内;以及PESD注入区,形成于所述P型阱区与所述N型重掺杂区的交界处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中颖电子股份有限公司,未经中颖电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110068177.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top