[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法有效

专利信息
申请号: 201110069807.7 申请日: 2011-03-18
公开(公告)号: CN102194639A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 山泽阳平 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H05H1/46
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法。在感应耦合型的等离子体处理装置中,能够减轻高频供电系统的负担,对于RF天线内的电流分布,能够不依赖于处理条件或等离子体状态地多样且任意地进行控制。在腔室的顶部或电介质窗之上,设置有用于在腔室内生成感应耦合的等离子体的RF天线(54)。该RF天线(54)具有在与电介质窗(52)平行的一水平面内配置为同心状的两组或两对线圈(54(1)、54(2))。在高频供电线(62)的终端部与内侧和外侧线圈段(56A、56B)的两端部之间设置有第一开关电路网(64)。在RF地线(66)的始端与内侧和外侧线圈段(58A、58B)的两端部之间设置有第二开关电路网(68)。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 方法
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:至少一部分由电介质的窗构成的能够进行真空排气的处理容器;在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部;用于对所述基板实施期望的等离子体处理,向所述处理容器内供给期望的处理气体的处理气体供给部;具有并进地延伸的第一线圈段和第二线圈段,用于在所述处理容器内通过感应耦合生成处理气体的等离子体,设置在所述电介质窗之外的RF天线;将适于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力向所述RF天线供给的高频供电部;和开关电路网,其在所述RF天线内,能够在下述模式之间切换:并联连接所述第一线圈段和第二线圈段的并联模式;以流过所述第一线圈段的电流的方向和流过所述第二线圈段的电流的方向在线圈卷绕方向上相同的方式串联连接所述第一线圈段和第二线圈段的成倍型串联模式;和以流过所述第一线圈段的电流的方向和流过所述第二线圈段的电流的方向在线圈卷绕方向上相反的方式串联连接所述第一线圈段和第二线圈段的抵消型串联模式。
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