[发明专利]扇出高密度封装方法有效

专利信息
申请号: 201110069836.3 申请日: 2011-03-22
公开(公告)号: CN102157393A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 陶玉娟;石磊 申请(专利权)人: 南通富士通微电子股份有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/56
代理公司: 北京市惠诚律师事务所 11353 代理人: 雷志刚;潘士霖
地址: 226006 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及扇出高密度封装方法,包括步骤:提供载板,在载板上形成剥离膜,在剥离膜上形成保护层,在保护层中形成再布线金属层,在保护层上形成与再布线金属层导通的布线封装层,在布线封装层上形成倒装封装层,各组封装层之间通过布线层和焊料凸点实现相互间的电连接,去除载板及剥离膜,裸露出第一保护层中的再布线金属,在裸露的再布线金属上形成金属焊球。与现有技术相比,本发明请求保护的扇出高密度封装方法,可以形成包含整体系统功能而非单一的芯片功能的最终封装产品,降低了系统内电阻、电感以及芯片间的干扰因素。此外,可以形成更为复杂的多层互联结构,实现集成度更高的圆片系统级封装。
搜索关键词: 高密度 封装 方法
【主权项】:
扇出高密度封装方法,其特征在于,包括步骤:提供载板;在载板上形成剥离膜;在剥离膜上形成第一保护层,并在第一保护层上形成设计的光刻图形开口;在第一保护层的表面及其光刻图形开口中形成再布线金属层;在第一保护层上形成带有部分暴露再布线金属层开口的第二保护层;在第二保护层上形成至少一组布线封装层,形成所述布线封装层的步骤包括依次形成正贴装层、封料层和布线层,布线封装层透过布线层与再布线金属层导通;在布线封装层上形成至少一组倒装封装层,形成倒装封装层的步骤包括依次形成倒贴装层、底部填充和封料层;其中各组封装层之间相互电连接;去除载板及剥离膜,裸露出第一保护层中的再布线金属;在裸露的再布线金属上形成金属焊球。
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