[发明专利]扇出高密度封装方法有效
申请号: | 201110069836.3 | 申请日: | 2011-03-22 |
公开(公告)号: | CN102157393A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 陶玉娟;石磊 | 申请(专利权)人: | 南通富士通微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/56 |
代理公司: | 北京市惠诚律师事务所 11353 | 代理人: | 雷志刚;潘士霖 |
地址: | 226006 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及扇出高密度封装方法,包括步骤:提供载板,在载板上形成剥离膜,在剥离膜上形成保护层,在保护层中形成再布线金属层,在保护层上形成与再布线金属层导通的布线封装层,在布线封装层上形成倒装封装层,各组封装层之间通过布线层和焊料凸点实现相互间的电连接,去除载板及剥离膜,裸露出第一保护层中的再布线金属,在裸露的再布线金属上形成金属焊球。与现有技术相比,本发明请求保护的扇出高密度封装方法,可以形成包含整体系统功能而非单一的芯片功能的最终封装产品,降低了系统内电阻、电感以及芯片间的干扰因素。此外,可以形成更为复杂的多层互联结构,实现集成度更高的圆片系统级封装。 | ||
搜索关键词: | 高密度 封装 方法 | ||
【主权项】:
扇出高密度封装方法,其特征在于,包括步骤:提供载板;在载板上形成剥离膜;在剥离膜上形成第一保护层,并在第一保护层上形成设计的光刻图形开口;在第一保护层的表面及其光刻图形开口中形成再布线金属层;在第一保护层上形成带有部分暴露再布线金属层开口的第二保护层;在第二保护层上形成至少一组布线封装层,形成所述布线封装层的步骤包括依次形成正贴装层、封料层和布线层,布线封装层透过布线层与再布线金属层导通;在布线封装层上形成至少一组倒装封装层,形成倒装封装层的步骤包括依次形成倒贴装层、底部填充和封料层;其中各组封装层之间相互电连接;去除载板及剥离膜,裸露出第一保护层中的再布线金属;在裸露的再布线金属上形成金属焊球。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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