[发明专利]一种受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法及装置无效

专利信息
申请号: 201110071090.X 申请日: 2011-03-23
公开(公告)号: CN102122080A 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: 匡翠方;郝翔;李旸晖;刘旭 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G02B27/48 分类号: G02B27/48;G02B21/08
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 褚超孚
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法及装置,该方法基于0/π四象限位相板聚焦,结合使用切向偏振光在显微物镜的焦点附近得到一个空心聚焦光斑,作为抑制光斑,用于脉冲或连续STED显微镜中的三维超分辨成像。该装置包括位于同轴光路上的激光器、空间光调制器、0/π四象限位相板和聚焦器件。该装置结构简单、成本低、并且在保证分辨率的情况下,可以降低STED显微镜的工作功率,避免了过强激光的漂白作用造成的对观察样品的损坏。
搜索关键词: 一种 受激发射 损耗 显微镜 抑制 光斑 生成 方法 装置
【主权项】:
一种受激发射损耗显微镜中抑制光斑的生成方法,包括以下步骤:(1)将由激光器出射的入射光线调制为切向偏振光;(2)将所述的切向偏振光垂直通过一个0/π四象限位相板表面进行位相编码,使所述的切向偏振光产生相对于初始相位的位相延迟,位相延迟的大小由所述的切向偏振光的圆形横截面内过特定点所处的迪卡尔坐标象限所决定:当处于一、三象限时,位相延迟为0,当处于二、四象限时,位相延迟为π;(3)将经过步骤(2)位相编码后的切向偏振光进行远场超分辨聚焦,聚焦后在焦平面附近形成一个面包圈样的空心聚焦光斑,为受激发射损耗显微镜中抑制光斑。
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