[发明专利]一种形貌可控尖晶石薄膜及其制备方法无效
申请号: | 201110076446.9 | 申请日: | 2011-03-29 |
公开(公告)号: | CN102181855A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | 李峰;范国利 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | C23C22/68 | 分类号: | C23C22/68 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 何俊玲 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种形貌可控的尖晶石薄膜及其制备方法。本发明采用原位合成技术,直接以金属铝片为基体,利用基片表面的铝提供尖晶石生长所需要的Al3+源,以等体积比的乙醇和水作为溶剂,以尿素作为碱性试剂,通过控制尿素和二价金属盐的浓度比,在低温条件下实现了尖晶石薄膜的一步合成。本方法所用工艺简单、原料易得、成本低、重复性好、薄膜形貌可控,解决了以往制备的尖晶石薄膜中原料价格昂贵,高温煅烧、烦琐的后期处理,以及薄膜容易从基体上脱落等问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 形貌 可控 尖晶石 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种形貌可控尖晶石薄膜,其化学通式是MAl2O4,其中M代表二价金属离子Zn2+、Mg2+、Ni2+中的任何一种,该尖晶石薄膜原位生长在铝及其合金的表面。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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