[发明专利]一种液晶显示器件、阵列基板和彩膜基板及其制造方法有效
申请号: | 201110076578.1 | 申请日: | 2011-03-29 |
公开(公告)号: | CN102645799A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 訾玉宝;郑载润;王世凯;吴代吾;侯智 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1335;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种液晶显示器件、阵列基板和彩膜基板及其制造方法,可提高液晶显示器件的开口率。本发明实施例的液晶显示器件包括:下基板;黑矩阵,形成在所述下基板之上;顶栅型TFT器件,形成在所述黑矩阵之上;上基板;像素层,形成在所述上基板上;彩膜ITO电极,形成在所述像素层之上;液晶分子层,形成在所述上基板和下基板之间。本发明通过直接将黑矩阵集成于玻璃基板上,因而可在基板上集成顶栅型TFT器件,使TFT-LCD的开口率进一步提高;且由于使用了顶栅型TFT器件,使工艺更加简单,进一步降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 液晶显示 器件 阵列 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种液晶显示器件,其特征在于,包括:下基板;黑矩阵,形成在所述下基板之上;顶栅型薄膜晶体管TFT器件,形成在所述黑矩阵之上;上基板;像素层,形成在所述上基板上;彩膜透明导电氧化物ITO电极,形成在所述像素层之上;液晶分子层,形成在所述上基板和下基板之间。
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