[发明专利]正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法有效
| 申请号： | 201110081626.6 | 申请日： | 2011-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN102213918A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 一户大吾 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法。本发明的目的在于提供一种正型放射线敏感性组合物，该组合物可以形成除了具有优异的耐热性和透明性以外，还具有无涂布不匀的高度平整性(膜厚均匀性)的层间绝缘膜，而且该组合物可以高速涂布，具有高的放射线灵敏度。本发明的正型放射线敏感性组合物包含：[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物；[B]光酸产生剂以及[C]具有含氟的结构单元和含硅的结构单元的共聚物。 | ||
| 搜索关键词： | 放射线 敏感性 组合 绝缘 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种正型放射线敏感性组合物，该组合物包含：[A]在同一或不同的聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物，[B]光酸产生剂，以及[C]包含具有氟的结构单元和具有硅的结构单元的共聚物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社，未经JSR株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110081626.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：磁共振装置
- 下一篇：心脏生理参数检测系统
