[发明专利]一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法有效
| 申请号： | 201110082649.9 | 申请日： | 2011-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN102248461A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 施春燕;袁家虎;伍凡;万勇建;范斌;雷柏平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法包括：确定待抛光光学元件表面的待抛光点和驻留时间分布，用随机轨道算法生成待抛光光学元件表面离散点的抛光顺序和抛光轨迹；用驻留时间补偿方法计算抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分布，获得待抛光光学元件表面离散点准确的驻留时间；根据驻留时间的分布，由机床代码转换程序生成随机轨迹数控抛光程序代码，在数控抛光机床执行随机轨迹数控抛光程序代码对待抛光光学元件表面各个点进行抛光。随机轨迹抛光方法根据面形分布，使抛光头和磨粒的运动轨迹近似为随机凌乱分布，待抛光光学元件不会残留规则的轨迹划痕，而且使规则的轨迹间的去除函数迭代误差均匀的分布在整个面形中，提高面形精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 轨迹 误差 随机 抛光 运动 方法 | ||
【主权项】：
一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法，其特征在于：实现所述方法的步骤包括：步骤S1：确定待抛光光学元件表面的待抛光点和驻留时间分布，通过随机轨道算法随机生成待抛光光学元件表面离散点的抛光顺序和抛光轨迹；步骤S2：采用随机轨迹驻留时间补偿方法计算抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分布，获得待抛光光学元件表面离散点准确的驻留时间；步骤S3：根据驻留时间的分布，由机床代码转换程序生成随机轨迹数控抛光程序代码，在数控抛光机床执行随机轨迹数控抛光程序代码对待抛光光学元件表面各个点进行抛光。
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