[发明专利]扫描光学设备有效

专利信息
申请号: 201110085356.6 申请日: 2011-03-31
公开(公告)号: CN102298209A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 大凑宽之;藤野仁志;中村佳史;汤川博基 申请(专利权)人: 兄弟工业株式会社
主分类号: G02B26/12 分类号: G02B26/12;G02B3/02
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;安翔
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及扫描光学设备。在包括被配置为将由多面镜(5)偏转的光束转换成在扫描表面(9A)上的斑点状图像的单透镜(6)的扫描光学设备(10)中,在透镜(6)的相对透镜表面(L1、L2)的第一光轴(A1)和第二光轴(A2)之间在主扫描平面中形成的角度β2[deg]满足条件-0.6<β2≤-0.1,并且条件-0.5<β1<0和-0.1<D2<0.2中的至少一个得以满足,这里β1示意在第一光轴(A1)和垂直于扫描表面的基准线(DL)之间在主扫描平面中形成的角度[deg],并且D2示意在主扫描平面中在第二光轴(A2)和出射侧透镜表面(L2)之间的交叉点(O2)从第一光轴(A1)的移位量[mm]。
搜索关键词: 扫描 光学 设备
【主权项】:
一种扫描光学设备,包括:光源;第一光学元件,所述第一光学元件被配置为将从所述光源发射的光转换成光束;第二光学元件,所述第二光学元件被配置为将已经通过所述第一光学元件的光束转换成在主扫描方向上延伸的线性图像;多面镜,所述多面镜被配置为在主扫描方向上偏转已经通过所述第二光学元件的光束;第三光学元件,所述第三光学元件被配置为将已被所述多面镜偏转的光束转换成将在扫描表面上聚焦的斑点状图像,所述第三光学元件是具有一对相对的入射侧和出射侧透镜表面的单透镜,所述入射侧和出射侧透镜表面分别具有第一和第二光轴,所述一对相对的透镜表面中的每一个在主扫描方向上是非球面形状的,并且具有从相应于其光轴的位置向主扫描方向外侧连续地并且对称地改变的副扫描方向曲率,所述一对透镜表面中的每一个相对于包含其光轴的副扫描平面具有在主扫描方向上对称的形状;和同步检测光束路径,所述同步检测光束路径被如此配置,使得光束通过所述同步检测光束路径,从所述多面镜行进到跨过所述一对透镜表面的光轴与所述光源相对的位置,从而被导向传感元件,所述传感元件产生用于在扫描开始位置的同步的信号,其中在所述多面镜的旋转中心和在所述多面镜上入射的光束的中心之间的距离h满足以下条件:R(sin((α‑θbd)/2)‑cos((α‑θbd)/2)×tan(π/N))+(bbd/2)×cos((α‑θbd)/2)<h和h<R(sin((α‑θeos)/2)+cos((α‑θeos)/2)×tan(π/N))‑(beos/2)×cos((α‑θeos)/2)这里R示意所述多面镜的内切圆的半径,N示意所述多面镜的定向反射面的数目,α示意由在所述多面镜上入射的光束与沿着在从所述多面镜反射离开之后将以直角在所述扫描表面上入射的光束的行进方向延伸的基准线形成的角度[rad],θbd示意由沿着所述同步检测光束路径从所述多面镜行进的光束与所述基准线形成的角度[rad],θeos示意由在扫描结束位置处从所述多面镜反射离开的光束与所述基准线形成的角度[rad],并且beos和bbd分别地示意在所述扫描结束位置处和在其中从所述多面镜反射离开的光束沿着所述同步检测光束路径行进的位置处,在所述多面镜的所述定向反射面中的每一个上光束在主扫描方向上的宽度;并且其中以下条件得以满足:‑0.6<β2≤‑0.1这里β2示意在所述第三光学元件的所述第一光轴和所述第二光轴之间在主扫描平面中形成的角度[deg],并且其中以下条件中的至少一个得以满足:‑0.5<β1<0,和‑0.1<D2<0.2这里β1示意在所述第一光轴和所述基准线之间在主扫描平面中形成的角度[deg],并且D2示意在主扫描平面中、在所述第二光轴和所述出射侧透镜表面之间的交叉点从所述第一光轴的移位量[mm]。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兄弟工业株式会社,未经兄弟工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110085356.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top