[发明专利]基于表面等离子体集成的光复用/解复用器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110086104.5 申请日: 2011-04-07
公开(公告)号: CN102141651A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 周治平;胡飞飞;易华祥 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G02B6/28 分类号: G02B6/28;G02B6/136
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于表面等离子体集成的光复用/解复用器,属于集成光电子技术领域。包括金属狭缝波导,以及在所述金属狭缝波导中形成的多个谐振腔和耦合区,所述金属狭缝波导包括一条总线波导以及多条分支波导,所有谐振腔通过一个耦合区与所述总线波导耦合连接,每个谐振腔还通过另一耦合区与一个分支波导耦合连接。本发明还提供了一种上述产品的制备方法。本发明可以极大地减小光电子器件的尺寸,并提高其集成度,可以应用于光子集成、光通信等领域。
搜索关键词: 基于 表面 等离子体 集成 光复 解复用器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于表面等离子体集成的光复用/解复用器,其特征在于,包括金属狭缝波导,以及在所述金属狭缝波导中形成的多个谐振腔和耦合区,所述金属狭缝波导包括一条总线波导以及多条分支波导,所有谐振腔通过一个耦合区与所述总线波导耦合连接,每个谐振腔还通过另一耦合区与一个分支波导耦合连接。
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