[发明专利]采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法无效
| 申请号： | 201110086195.2 | 申请日： | 2011-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN102737924A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 张敏;王小霞;罗积润;赵庆兰;廖显恒 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电子学研究所 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02;C23C4/12;C23C4/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法。该方法包括：制备氧化物喷涂材料；将制备的氧化物喷涂材料置入等离子炬中，装配阴极基底至喷涂模具；在等离子炬中的等离子气氛下加热氧化物喷涂材料，使氧化物喷涂材料撞击并附着在阴极基底上，形成氧化物阴极。本发明采用等离子喷涂制备氧化物阴极，所制备的氧化物阴极中不会残留有害物质，从而提升了微波管的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 等离子 喷涂 制备 氧化物 阴极 方法 | ||
【主权项】：
一种采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法，其特征在于，该方法包括：制备氧化物喷涂材料；将制备的所述氧化物喷涂材料置入等离子炬中，装配阴极基底至喷涂模具；在所述等离子炬中的等离子气氛下加热所述氧化物喷涂材料，使所述氧化物喷涂材料撞击并附着在所述阴极基底上，形成氧化物阴极。
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