[发明专利]一种套刻偏差检查标记及其制作方法有效
| 申请号： | 201110087489.7 | 申请日： | 2011-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN102738121A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 王辉;安辉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;顾珊 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种套刻偏差检查标记（300），包括：第一子结构（301），所述第一子结构形成在第一材料层中，并且由围成“口”字形的四个长条状标记组成；第二子结构（302），所述第二子结构形成在所述第一材料层中，且位于所述第一子结构内侧；和第三子结构（303），所述第三子结构形成在位于所述第一材料层上的第二材料层中且由围成“口”字形的四个长条状标记组成，且从平面看，与所述第一子结构嵌套构成“回”字形，并且所述第一、第二和第三子结构彼此不重合。通过本发明，可以对诸如退火处理这样的热处理过程中产生的变形偏差进行监控，同时又能检查由于曝光误差导致的各种位置偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 偏差 检查 标记 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种套刻偏差检查标记，包括：第一子结构，所述第一子结构形成在第一材料层中，并且由围成“口”字形的四个长条状标记组成；第二子结构，所述第二子结构形成在所述第一材料层中，且位于所述第一子结构内侧；和第三子结构，所述第三子结构形成在位于所述第一材料层上的第二材料层中且由围成“口”字形的四个长条状标记组成，且从平面看，与所述第一子结构嵌套构成“回”字形，并且所述第一、第二和第三子结构彼此不重合。
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