[发明专利]一种制备掩埋式光波导的方法无效
| 申请号： | 201110093010.0 | 申请日： | 2011-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN102736178A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 杨建义;郑伟伟;郝寅雷;王明华 | 申请（专利权）人： | 上海光芯集成光学股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/134 | 分类号： | G02B6/134;G02B6/13 |
| 代理公司： | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 200072 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种制备掩埋式光波导的方法，包括：在玻璃基片(1)的表面上制作掩膜(2)，在掩膜上形成离子交换窗口；利用离子交换处理该带有掩膜(2)的玻璃基片(1)；清洗并去掉表面的掩膜(2)；在玻璃基片(1)的表面淀积一层低折射率材料(5)，形成掩埋式光波导。本发明的方法只进行一次离子交换，降低了工艺流程的复杂度，相对缩短了器件生产时间。减少了复杂的工艺步骤，有利于提高成品率和降低器件的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 掩埋 波导 方法 | ||
【主权项】：
一种制备掩埋式光波导的方法，其特征在于，该方法包括：在玻璃基片(1)的表面上制作掩膜(2)，在掩膜(2)上形成离子交换窗口；利用离子交换处理该带有掩膜(2)的玻璃基片(1)；清洗并去掉表面的掩膜(2)；在玻璃基片(1)的表面淀积一层低折射率材料(5)，形成掩埋式光波导。
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