[发明专利]正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法

摘要

本发明提供一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法，该正型放射线敏感性组合物在高水平的保持放射线敏感性组合物的放射线敏感度的同时，抑制自由基或过氧化物的发生，由此可形成下述层间绝缘膜等，该层间绝缘膜具有优异的耐光性以及耐热性，而且抑制透光率、耐热透明性以及电压保持率的降低。本发明的正型放射线敏感性组合物包括：[A]在同一或不同聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物；[B]光酸产生剂；以及[C]从含受阻酚结构的化合物、含受阻胺结构的化合物、含亚磷酸烷基酯结构的化合物以及含硫醚结构的化合物构成的群组中选出的一种或两种以上化合物。

主权项

1.一种正型放射线敏感性组合物，其包括：[A]在一同或不同聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物；[B]光酸产生剂；以及[C]从含受阻酚结构的化合物、含受阻胺结构的化合物、含亚磷酸烷基酯结构的化合物以及含硫醚结构的化合物构成的群组中选出的一种或两种以上化合物，式(1)中，R¹和R²各自独立地是氢原子、烷基、环烷基或芳基，这些烷基、环烷基或芳基的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，其中，不包括R¹和R²都是氢原子的情形，R³是烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R^3m)₃所示的基团，M是Si、Ge或Sn，R^3m是烷基，这些的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，R¹和R³可以连接形成环状醚。