[发明专利]半导体装置和半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201110094367.0 申请日: 2011-04-12
公开(公告)号: CN102222622A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 吉原晋二;浅海一志;北村康宏;大原淳士 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/64
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王永建
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及半导体装置和半导体装置的制造方法。在具有位于板(10)上的线圈层部分(21)的半导体装置的制造方法中,制备两个分别具有平坦表面的支承基板(80),以及在每个支承基板的平坦表面上形成构件(30,40,50,60)。所述构件包括具有预定图案的布线部分(32,42,52,62)和包围该布线部分的绝缘膜(31,41,51,61)。布线部分设有从绝缘膜暴露的连接部分(32a,32b,42a,42b,52a,52b,62a,62b)。线圈层部分(21)在支承基板(80)的平坦表面相互平行的条件下通过使形成在支承基板(80)上的构件(30,40,50,60)彼此相对并结合形成。线圈(20)通过经由连接部分连接布线部分形成在线圈层部分中。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置的制造方法,该半导体装置具有位于板(10)上的线圈(20),该线圈(20)限定出与垂直于该板(10)的平面的方向平行的轴线,该方法包括:制备两个分别具有平坦表面的支承基板(80);在每个支承基板(80)的平坦表面上形成构件(30,40,50,60),所述构件(30,40,50,60)包括具有预定图案的布线部分(32,42,52,62)和包围布线部分(32,42,52,62)的绝缘膜(31,41,51,61),布线部分(32,42,52,62)设有从绝缘膜(31,41,51,61)暴露的连接部分(32a,32b,42a,42b,52a,52b,62a,62b);以及形成线圈层部分(21),所述线圈层部分(21)具有层叠构件(30,40,50,60)和位于所述层叠构件(30,40,50,60)的相反端部的支承基板(80),并且其中包括由通过连接部分(32a,32b,42a,42b,52a,52b,62a,62b)相互连接的布线部分(32,42,52,62)构成的线圈(20),线圈层部分(21)的形成包括:使形成在支承基板(80)上的构件(30,40,50,60)相对;以及使构件(30,40,50,60)相互结合,从而使得在支承基板(80)的平坦表面相互平行的条件下,在施加压力的同时,布线部分(32,42,52,62)通过连接部分(32a,32b,42a,42b,52a,52b,62a,62b)相互连接。
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