[发明专利]一种调焦调平测量装置有效

专利信息
申请号: 201110098237.4 申请日: 2011-04-19
公开(公告)号: CN102749816A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 张冲;陈飞彪;李志丹 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种调焦调平测量装置,该装置具有照明标记单元,投影成像单元,接受成像单元,校正单元,以及探测器阵列,其中,还包括校正单元,所述校正单元具有校正棱镜单元和校正透镜组,从所述照明标记单元出射的投影标记经所述投影成像单元成像于硅片面上并被硅片面反射后由所述接受成像单元成像,并经所述校正单元校正后聚焦至探测器阵列的受光面。本发明的调焦调平测量装置,在校正棱镜之后采用与各标记对应的校正透镜使各标记垂直入射到探测器上,降低原系统的透射及反射损耗,同时由于没有对整个探测器面没有缩小,各探测点之间距离较大,也便于探测器阵列的位置安放。同时改变光源结构采用声光偏转器件替代振动反射镜,很容易实现精确调制。
搜索关键词: 一种 调焦 测量 装置
【主权项】:
一种调焦调平测量装置,该装置具有照明标记单元,投影成像单元,接受成像单元,校正单元,以及探测器阵列,其中,还包括校正单元,所述校正单元具有校正棱镜单元和校正透镜组,从所述照明标记单元出射的投影标记经所述投影成像单元成像于硅片面上并被硅片面反射后由所述接受成像单元成像,并经所述校正单元校正后聚焦至探测器阵列的受光面。
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