[发明专利]半导体封装结构及其制作方法无效
申请号: | 201110101426.2 | 申请日: | 2011-04-22 |
公开(公告)号: | CN102751203A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 梁心丞 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/60;H01L23/485;H01L23/28 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种半导体封装结构及其制造方法。该制造方法包括,提供平板、第一导电层及第二导电层,其中第一导电层配置在平板上,第二导电层配置在第一导电层上,而第二导电层与第一导电层之间的结合强度小于第一导电层与平板之间的结合强度。形成介电层在平板及第二导电层上。形成线路结构在介电层上。安装至少一芯片至线路结构。安装支撑层至线路结构,支撑层为含有玻纤的树脂叠层,而支撑层包覆芯片。接着施力解除第一导电层及第二导电层之间的结合后,可再进行其他后续步骤。 | ||
搜索关键词: | 半导体 封装 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种半导体封装结构制作方法,包括:提供平板、第一导电层及第二导电层,其中该第一导电层配置在该平板上,该第二导电层配置在该第一导电层上,而该第二导电层与该第一导电层之间的结合强度小于该第一导电层与该平板之间的结合强度;形成介电层在该平板及该第二导电层上;形成线路结构在该介电层上;安装至少一芯片至该线路结构;安装支撑层至该线路结构,该支撑层为含有玻纤的树脂叠层,而该支撑层包覆该芯片;以及通过施力解除该第一导电层与该第二导电层之间的结合,分离该第一导电层及该第二导电层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110101426.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造