[发明专利]制造垂直发光器件的方法及用于该发光器件的衬底组件无效

专利信息
申请号: 201110104619.3 申请日: 2011-04-22
公开(公告)号: CN102479892A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 张剑平;闫春辉 申请(专利权)人: 亚威朗集团有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/78;H01L33/20;H01L33/22
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 中国香港中环*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 在制造垂直发光器件的方法中,通过在衬底和发光二极管结构的界面进行分离或剥离处形成空隙,利于将衬底从该衬底上形成的发光二极管结构上分离或剥离。一种衬底组件包括衬底和外延层,并且以可控方式在衬底和外延层之间的界面处形成多个空隙。然后,在该外延层上形成发光二极管结构,接着将发光二极管结构附着在一衬顶上,将衬底从外延层上分离,并在原衬底所在处形成导电层和接触电极,从而形成垂直发光器件。
搜索关键词: 制造 垂直 发光 器件 方法 用于 衬底 组件
【主权项】:
一种制造发光器件的方法,包括:制备在顶面具有交替形成的多个凹陷和多个外延生长部分的衬底;在该衬底的顶面上沉积外延层以覆盖但不完全填满所述凹陷,从而在凹陷处形成空隙;在该外延层上形成发光二极管结构;将该发光二极管结构附着在一衬顶上;以及从该外延层上分离该衬底。
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