[发明专利]制造垂直发光器件的方法及用于该发光器件的衬底组件无效
申请号: | 201110104619.3 | 申请日: | 2011-04-22 |
公开(公告)号: | CN102479892A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 张剑平;闫春辉 | 申请(专利权)人: | 亚威朗集团有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/78;H01L33/20;H01L33/22 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 中国香港中环*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在制造垂直发光器件的方法中,通过在衬底和发光二极管结构的界面进行分离或剥离处形成空隙,利于将衬底从该衬底上形成的发光二极管结构上分离或剥离。一种衬底组件包括衬底和外延层,并且以可控方式在衬底和外延层之间的界面处形成多个空隙。然后,在该外延层上形成发光二极管结构,接着将发光二极管结构附着在一衬顶上,将衬底从外延层上分离,并在原衬底所在处形成导电层和接触电极,从而形成垂直发光器件。 | ||
搜索关键词: | 制造 垂直 发光 器件 方法 用于 衬底 组件 | ||
【主权项】:
一种制造发光器件的方法,包括:制备在顶面具有交替形成的多个凹陷和多个外延生长部分的衬底;在该衬底的顶面上沉积外延层以覆盖但不完全填满所述凹陷,从而在凹陷处形成空隙;在该外延层上形成发光二极管结构;将该发光二极管结构附着在一衬顶上;以及从该外延层上分离该衬底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亚威朗集团有限公司,未经亚威朗集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110104619.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。