[发明专利]光源单元、光学扫描装置和成像设备有效
| 申请号： | 201110106201.6 | 申请日： | 2011-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN102248806A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 大场义浩;菅原悟;石井稔浩 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | B41J2/455 | 分类号： | B41J2/455;G02B26/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王冉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光源单元、光学扫描装置和成像设备。所述光源单元包括：表面发射激光器阵列，该表面发射激光器阵列包括发光单元；以及孔径元件，该孔径元件设置在从所述表面发射激光器阵列发出的光束的光路上，且该孔径元件包括孔径，其中：在至少一个方向上，由穿过所述孔径的光束所造成的干涉图案的强度分布包括相等数量的波峰和波谷。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 单元 光学 扫描 装置 成像 设备 | ||
【主权项】：
一种光源单元，包括：表面发射激光器阵列，该表面发射激光器阵列包括发光单元；以及孔径元件，该孔径元件设置在从所述表面发射激光器阵列发出的光束的光路上，且该孔径元件包括孔径，其中：在至少一个方向上，由穿过所述孔径的光束所造成的干涉图案的强度分布包括相等数量的波峰和波谷。
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