[发明专利]半导体工艺配方生成方法及系统有效
| 申请号： | 201110106674.6 | 申请日： | 2011-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN102243670A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 郭训容;杨晓;吴仪 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100016 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体工艺配方生成方法及系统，该方法包括步骤：S1.根据不同腔室的特征，对工艺配方进行动态配置，生成配置文件，并进行配方参数的约束设置；S2.根据配置文件以及配方参数的约束设置，生成工艺配方文件。本发明的方法及系统利用半导体工艺过程中某些流程的相同相似性，可实现快速生成以及检验配方。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺 配方 生成 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种半导体工艺配方生成方法，其特征在于，该方法包括步骤：S1.根据不同腔室的特征，对工艺配方进行动态配置，生成配置文件，并进行配方参数的约束设置；S2.根据配置文件以及配方参数的约束设置，生成工艺配方文件。
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