[发明专利]形成光刻图案的方法有效
| 申请号： | 201110108960.6 | 申请日： | 2011-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN102338982A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 姜锡昊;C·科尔特 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004;G03F7/038 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种形成光刻图案的方法。还提供涂覆的基板和通过该方法形成的电子器件。该方法在电子器件的制造中具有特殊用途。提供了一种形成光刻图案的方法，所述方法包括：(a)提供在其表面上具有一个或多个将被图案化的层的基板；(b)在该一个或多个将被图案化的层上施加光致抗蚀剂组合物层，该光致抗蚀剂组合物包括具有酸解离基团的树脂和光酸产生剂；(c)在光化辐射下图案化曝光该光致抗蚀剂组合物层；并且(d)在光致抗蚀剂组合物层上施加显影剂，其中光致抗蚀剂组合物层中的未曝光区域被显影剂去除，在一个或多个将被图案化的层上形成光致抗蚀剂图案，其中该显影剂包括2-庚酮和/或5-甲基-2-己酮。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种形成光刻图案的方法，所述方法包括：(a)提供在其表面上具有一个或多个将被图案化的层的基板；(b)在该一个或多个将被图案化的层上施加光致抗蚀剂组合物层，该光致抗蚀剂组合物包括具有酸解离基团的树脂和光酸产生剂；(c)在光化辐射下图案化曝光该光致抗蚀剂组合物层；并且(d)在光致抗蚀剂组合物层上施加显影剂，其中光致抗蚀剂组合物层中的未曝光区域被显影剂去除，在一个或多个将被图案化的层上形成光致抗蚀剂图案，其中该显影剂包括2‑庚酮和/或5‑甲基‑2‑己酮。
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