[发明专利]薄膜沉积设备、制造有机发光显示装置的方法及显示装置有效
申请号: | 201110112195.5 | 申请日: | 2011-04-27 |
公开(公告)号: | CN102286727A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 宋正培;崔凡洛;李相泌;宋泳录 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/54;C23C16/455;H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星;王青芝 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜沉积设备、一种制造有机发光显示装置的方法及一种显示装置。薄膜沉积设备包括多个薄膜沉积组件,每个薄膜沉积组件包括:沉积源,包括沉积材料;沉积源喷嘴单元,布置在沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,与沉积源喷嘴单元相对地布置并具有沿第一方向布置的多个图案化狭缝;阻挡板组件,包括沿第一方向布置的多个阻挡板,阻挡板组件布置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间。薄膜沉积设备和基底彼此分开并能相对彼此移动。沉积材料包括用来产生红光(R)发射层、绿光(G)发射层或蓝光(B)发射层或者辅助层的材料。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 设备 制造 有机 发光 显示装置 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜沉积设备,用于在基底上产生薄膜,所述薄膜沉积设备包括多个薄膜沉积组件,每个薄膜沉积组件包括:沉积源,包括沉积材料,所述沉积源排放沉积材料;沉积源喷嘴单元,布置在所述沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,与所述沉积源喷嘴单元相对地布置并具有沿所述第一方向布置的多个图案化狭缝;阻挡板组件,包括沿所述第一方向布置的多个阻挡板,所述阻挡板组件布置在所述沉积源喷嘴单元和所述图案化缝隙片之间,所述阻挡板组件将所述沉积源喷嘴单元和所述图案化缝隙片之间的空间划分为多个子空间,其中,所述薄膜沉积设备与所述基底分开一定的距离,所述薄膜沉积设备和所述基底能相对彼此移动,所述沉积材料包括产生薄膜的材料,所述薄膜选自于由红光发射层、绿光发射层、蓝光发射层和多个辅助层组成的组中。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的