[发明专利]一种核微孔膜的生产方法无效
| 申请号： | 201110112683.6 | 申请日： | 2011-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN102188909A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 崔清臣;凌红旗;晏光明;黄海龙 | 申请（专利权）人： | 中山国安火炬科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;G09F3/02 |
| 代理公司： | 中山市汉通知识产权代理事务所 44255 | 代理人： | 田子荣 |
| 地址： | 528437 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种核微孔膜的生产方法其特征在于包括如下步骤：(一)辐照：对高分子薄膜进行辐照；(二)蚀刻：将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中蚀刻形成微孔；(三)涂布堵孔：对不需要形成加密信息位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。本发明与现有技术相比，具有以下优点：1)在蚀刻后对不需要形成加密信息位置的高分子薄膜进行涂布高强度堵孔涂料，堵塞该位置的微孔，形成的微孔膜加密信息不会被破坏，完整性好。2)由于渗入微孔的涂料的分子力作用，使微孔膜的机械强度增加。3)蚀刻后涂胶降低了废品率，便于后续工序的高速生产，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微孔 生产 方法 | ||
【主权项】：
一种核微孔膜的生产方法，其特征在于包括如下步骤：(一)辐照：对高分子薄膜进行辐照；(二)蚀刻：将辐照后的高分子薄膜放在酸液(或碱液)中蚀刻形成微孔；(三)涂布堵孔：对不需要形成微孔位置的高分子薄膜进行涂布堵孔，形成具有完整加密信息的微孔膜。
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