[发明专利]一种能够提高铜箔剥离强度的表面处理粗化工艺有效

专利信息
申请号: 201110120113.1 申请日: 2011-04-30
公开(公告)号: CN102212853A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 胡旭日;王维河;徐策;滕笑朋;刘心刚;孙松波;王祝明;温卫国 申请(专利权)人: 山东金宝电子股份有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;H05K3/38
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 265400 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种可以提高铜箔剥离强度的表面处理粗化工艺,属于电解铜箔表面处理生产技术领域。一种能够提高铜箔剥离强度的表面处理粗化工艺,其特征在于,在原粗化液的基础上添加几种添加剂,让其形成“铜+A+B”混合溶液,电镀为合金电镀,再配合浓度、温度、电流密度、电镀时间的工艺要求,生产出铜箔结晶核多,且都分布在铜箔毛面的大部。这样可以有效地提高无卤无铅覆铜板铜箔剥离强度。
搜索关键词: 一种 能够 提高 铜箔 剥离 强度 表面 处理 化工
【主权项】:
一种能够提高铜箔剥离强度的表面处理粗化工艺,其特征在于,具体工艺步骤如下:1)、将阴极铜、浓硫酸、软水、蒸汽混合溶解,生成硫酸铜溶液;2)、向硫酸铜溶液中加入添加剂;3)、混合充分后进入粗化槽进行电镀;其工艺要求范围为Cu2+ 10‑18g/l,H2SO4 160‑200g/l,温度为25‑40℃;电镀电流密度0.3‑0.5A/cm2,电镀时间6‑8S;所述添加剂包含表面活性剂SDBS和Fe2+化合物和Co2+化合物;添加剂的工艺范围分别为表面活性剂SDBS:0.1‑0.5g/l、Fe2+:2‑4g/l、Co2+:1‑3g/l。
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