[发明专利]具有径向未对准补偿的分子粘附结合方法有效
申请号: | 201110126409.4 | 申请日: | 2011-05-11 |
公开(公告)号: | CN102315149A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | G·戈丹 | 申请(专利权)人: | S.O.I.TEC绝缘体上硅技术公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;孙向民 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一种具有径向未对准补偿的分子粘附结合方法。一种通过分子粘附将第一晶片(100)结合到第二晶片(200)上的方法,所述晶片之间具有初始径向未对准,所述方法至少包括一个使所述两个晶片(100,200)接触从而启动所述两个晶片之间的结合波的传播的步骤。根据本发明,在所述接触步骤期间,根据所述初始径向未对准在所述两个晶片中的至少一个上施加预定结合曲率(KB)。 | ||
搜索关键词: | 具有 径向 对准 补偿 分子 粘附 结合 方法 | ||
【主权项】:
一种通过分子粘附将第一晶片(100)结合到第二晶片(200)上的方法,所述晶片之间具有初始径向未对准(DR),所述方法至少包括接触步骤,使所述两个晶片(100,200)接触从而启动所述两个晶片之间的结合波的传播,其特征在于在所述接触步骤期间,根据所述初始径向未对准(DR)在所述两个晶片中的至少一个上施加预定结合曲率(KB)。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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