[发明专利]托盘装置及结晶膜生长设备有效
申请号: | 201110126511.4 | 申请日: | 2011-05-16 |
公开(公告)号: | CN102787303A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 古村雄二;张建勇;张秀川;徐亚伟 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张天舒;陈源 |
地址: | 100015 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于结晶膜生长技术领域。本发明提供的托盘装置包括:多个层叠设置的托盘,相邻托盘之间具有一定间距;旋转机构,其至少与一个托盘连接并借助于托盘之间的层叠结构而带动所述多个托盘进行旋转运动;以及限位机构,其与所述托盘连接,用于对所述多个托盘的位置进行限定。结晶膜生长设备包括工艺腔室、工艺气体输送系统及排气系统,在工艺腔室内设置有上述托盘装置,用以在工艺过程中承载基片。本发明提供的托盘装置及结晶膜生长设备可以在托盘装置旋转过程中限制各托盘在径向和/或周向方向上产生相对位移,从而减少甚至避免彼此叠置的托盘之间因相对位移而产生摩擦和/或挤压并导致托盘损毁,进而延长托盘装置和结晶膜生长设备的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 托盘 装置 结晶 生长 设备 | ||
【主权项】:
一种托盘装置,用于承载被加工基片,其包括多个层叠设置的托盘,并且相邻托盘之间具有一定间距,其特征在于,所述托盘装置还包括旋转机构,其至少与一个托盘连接并借助于托盘之间的层叠结构而带动所述多个托盘进行旋转运动;以及限位机构,其与所述托盘连接,用于对所述多个托盘的位置进行限定。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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