[发明专利]光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致抗蚀剂有效
| 申请号： | 201110128498.6 | 申请日： | 2011-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN102304068A | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | E·阿恰达;李明琦;C-B·徐 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C07C309/17 | 分类号： | C07C309/17;C07C303/32;C07C381/12;C07D307/00;C07D307/88;C07D327/04;C07D333/46;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致抗蚀剂。本发明涉及合成光酸产生剂化合物(“PAGs”)的新方法、新的光酸产生剂化合物和含有这些PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。在特别的方面，光酸产生剂具有1)SO3-基团，2)一个或多个氟化碳原子和3)一个或多个直接或间接地被酮酸酯基团取代的氟化碳原子。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 含有 光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
光酸产生剂化合物，所述化合物包括：1)SO3‑部分，2)一个或多个氟化碳原子，3)一个或多个直接或间接地被酮酸酯基团取代的氟化碳原子。
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