[发明专利]光学装置和投影装置有效
申请号: | 201110128555.0 | 申请日: | 2011-05-18 |
公开(公告)号: | CN102262300A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 岩根哲晃;爱甲祯久;山本英树;本间圭佑 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G02B27/18 | 分类号: | G02B27/18;G02B27/10;G02B27/28;G02B7/00;G03B21/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 曲莹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种光学装置,其包括:光合成棱镜,合成向多个入射面入射的入射光束、并输出合成的光束;光调制单元,包括光学补偿元件和反射型光调制器件;和固定构件,将反射型偏振元件和所述光调制单元固定至所述光合成棱镜,以对应于入射面中的一个,其中,所述光调制单元包括:遮光构件,遮挡光到达所述光调制单元,并将照射所述光学补偿元件和所述反射型光调制器件的光限制为通过开口部的光;和隔热构件,与所述遮光构件和所述固定构件发生接触。本发明还涉及包括该光学装置的投影装置。 | ||
搜索关键词: | 光学 装置 投影 | ||
【主权项】:
一种光学装置,包括:光合成棱镜,合成向多个入射面入射的入射光束、并输出合成的光束;光调制单元,包括光学补偿元件和反射型光调制器件;和固定构件,将反射型偏振元件和所述光调制单元固定至所述光合成棱镜,以对应于入射面中的一个,其中,所述光调制单元包括:遮光构件,遮挡光到达所述光调制单元,并将照射所述光学补偿元件和所述反射型光调制器件的光限制为通过开口部的光;和隔热构件,与所述遮光构件和所述固定构件发生接触。
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