[发明专利]彩膜基板的制造方法有效
| 申请号： | 201110129027.7 | 申请日： | 2011-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102645783B | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 林鸿涛 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/20;G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗建民;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜基板的制造方法。该方法包括：在衬底基板上形成彩色光阻图形和黑矩阵图形，所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形同步形成。本发明提供的彩膜基板的制造方法中，在衬底基板上形成彩色光阻图形和黑矩阵图形，其中彩色光阻图形和黑矩阵图形同步形成，因此形成黑矩阵图形和彩色光阻图形的过程可共用生产线来完成，无需为黑矩阵图形单独配置昂贵的生产设备，从而降低了彩膜基板的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成彩色光阻图形和黑矩阵图形，所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形同步形成，所述黑矩阵图形形成于每一个所述彩色光阻图形之上，所述黑矩阵图形位于所述彩色光阻图形的两端部分，相邻的两个所述彩色光阻图形的上方的黑矩阵图形组成一个黑矩阵单元；所述在衬底基板上形成彩色光阻图形和黑矩阵图形包括：通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成红色光阻图形和与所述红色光阻图形对应的黑矩阵图形；通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成绿色光阻图形和与所述绿色光阻图形对应的黑矩阵图形；或者通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成红色光阻图形和与所述红色光阻图形对应的黑矩阵图形；通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成蓝色光阻图形和与所述蓝色光阻图形对应的黑矩阵图形；或者通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成蓝色光阻图形和与所述蓝色光阻图形对应的黑矩阵图形；通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成绿色光阻图形和与所述绿色光阻图形对应的黑矩阵图形；或者通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成红色光阻图形和与所述红色光阻图形对应的黑矩阵图形；通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成绿色光阻图形和与所述绿色光阻图形对应的黑矩阵图形；通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成蓝色光阻图形和与所述蓝色光阻图形对应的黑矩阵图形。
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