[发明专利]一种光束整形器件无效
| 申请号： | 201110134130.0 | 申请日： | 2011-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN102162925A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 林妩媚;廖志杰;邱传凯;刘银辉;邢廷文;张海波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明是光束整形器件，其包含阵列式分布的光束整形单元，每个整形单元含有多个位相子单元，每个整形单元均能够独立实现光束整形。整形器件根据光束远场的光强分布要求利用位相反演算法获得器件位相分布数据，采用刻蚀或压印的方法在器件上形成获得的位相分布形式，从而构造出可以实现任意形状或满足不同光强分布要求的光束整形器件，尤其是可以获得光强均匀分布的光束整形器件。本发明可以用于热光源、固体激光器、准分子激光器和半导体激光器等光源出射光束的变换和整形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光束 整形 器件 | ||
【主权项】：
一种光束整形器件，包含有基底，其特征在于，在基底的一侧工作面上设有多个整形单元，在基底的x轴向和y轴向呈阵列式分布M×N个整形单元，M×N个整形单元之间紧密连接；每个整形单元包含P×Q个位相子单元，M、N、P和Q为正整数，且M和N不同时等于1，P和Q也不同时等于1，入射光束被M×N个整形单元个分割成多个子光束，每个子光束经P×Q个位相子单元调制生成调制后生成的远场光场的光强分布相同，且M×N个远场光场相互叠加，形成与子光束远场光场强度分布相同的输出光场。
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