[发明专利]利用可控光源的光场采样及模拟方法有效
| 申请号： | 201110134132.X | 申请日： | 2011-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN102314708A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 赵沁平;王霖;伍朝辉;周忠;吴威 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G06T17/00 | 分类号： | G06T17/00;G06T7/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 李新华;贾玉忠 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用可控光源的光场采样及模拟方法。该方法设计一种可控光源装置进行光场的采集与模拟，具体包括：(1)设计一种位置、方向、光强度、照射表面可控的光源装置；(2)将可控光源装置与光场采集设备置于实验场景中，对光场采集装置进行标定；(3)在步骤(2)搭建好实验平台后，控制光源属性线性变化，对环境光场进行密集采样，生成四维全光函数，建立光源属性与全光函数的映射关系；(4)在步骤(3)建立光源属性与全光函数的映射关系后，利用全光函数的连续性，恢复带有光源相关参数的高维全光函数；(5)利用光源变化信息对高维全光函数重采样获得不同光源条件下的环境光场。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 可控 光源 采样 模拟 方法 | ||
【主权项】：
利用可控光源的光场采样及模拟方法，其特征在于包括：(1)布置可控光源装置，所述可控光源装置的位置、方向、光强度、照射表面可调；(2)将可控光源装置与光场采集设备置于实验场景中，对光场采集设备进行标定；(3)可控光源装置包括六维可控参数，控制每个参数进行线性变化，对环境光场进行密集采样，生成四维全光函数，建立光源属性与全光函数的映射关系，所述建立光源属性与全光函数的映射关系包括：首先将可控光源属性划分为三维位置参数、二维球面角度参数、一维光强度参数共六维参数，然后利用控制变量法分别建立每个参数的变化条件下全光函数的变化规律；(4)建立光源属性与全光函数的映射关系后，利用全光函数空间和角度的连续性，恢复带有光源参数的高维全光函数；(5)在光源发生变化的条件下，通过对已建立的高维全光函数进行重采样得到不同条件下环境光场信息。
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