[发明专利]一种硅片料的清洗方法无效
| 申请号： | 201110134347.1 | 申请日： | 2011-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN102205329A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 牛小群;张期云;余新明 | 申请（专利权）人： | 浙江星宇能源科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 舒良 |
| 地址： | 324300 浙江省开化*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅片料的清洗方法，该方法将硅片料依次经过下列清洗工序：A：采用氢氟酸浸泡一定时间，之后用水冲洗干净；B：采用硝酸与盐酸混合制成的王水浸泡一定时间；C：采用氢氟酸与硝酸的混合液进行清洗，之后用水冲洗干净；D：采用氢氧化钠溶液漂洗一定时间；E：采用盐酸和离子水混合液进行中和。采用本发明，根据实验结果表明，硅片料的得率在97％以上，与原清洗方法得率在90～92％相比，提高得率至少在5％以上。同时，也能防止坩埚腐蚀穿透现象，加强了安全生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种硅片料的清洗方法，其特征在于将硅片料依次经过下列清洗工序：A：采用氢氟酸浸泡一定时间，之后用水冲洗干净；B：采用硝酸与盐酸混合制成的王水浸泡一定时间；C：采用氢氟酸与硝酸的混合液进行清洗，之后用水冲洗干净；D：采用氢氧化钠溶液漂洗一定时间；E：采用盐酸和离子水混合液进行中和。
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