[发明专利]位移装置、光刻设备以及定位方法有效
申请号: | 201110139210.5 | 申请日: | 2011-05-23 |
公开(公告)号: | CN102269935A | 公开(公告)日: | 2011-12-07 |
发明(设计)人: | J·H·A·范德瑞吉德特;J·J·奥腾斯;M·M·P·A·沃梅尤恩;E·J·A·曼德尔斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明公开一种位移装置、光刻设备以及定位方法。所述位移装置具有相对于彼此是可位移的第一和第二部分,所述第一部分设置有磁体系统,所述第二部分设置有线圈组件单元组,线圈组件单元组包括:具有平行于第二方向取向的电流导体的至少三个第一线圈组件单元;具有平行于第一方向取向的电流导体的至少两个第二线圈组件单元,其中位移装置包括控制装置,所述控制装置配置成控制第二部分相对于第一部分的位置,其中,当第二部分主要沿第二方向移动时,控制单元配置成通过仅使用第一线圈组件单元沿第三方向将第二部分悬浮离开第一部分。 | ||
搜索关键词: | 位移 装置 光刻 设备 以及 定位 方法 | ||
【主权项】:
一种位移装置,包括:第一部分和第二部分,其中第二部分在第一方向上相对于第一部分是可位移的,第二方向基本上垂直于第一方向,并且第三方向垂直于第一和第二方向,第一部分包括载体,所述载体基本上平行于第一和第二方向延伸并且磁体系统依照图案布置在载体上,其中磁体系统包括具有基本上垂直于载体且方向朝向第二部分的磁化方向的第一磁体和具有基本上垂直于载体且方向远离开第二部分的磁化方向的第二磁体,第一和第二磁体依照行和列基本上彼此垂直且与第一和第二方向中的一个方向成大致45°角的图案布置,使得第一磁体和第二磁体交替地布置在每一行和每一列中,其中第二部分包括具有线圈组件单元组的电线圈系统,每个线圈组件单元具有布置在磁体系统的磁场内并且在使用时由多相系统供电的电流导体,其中线圈组件单元组包括具有基本上平行于第二方向取向的电流导体的至少三个第一线圈组件单元;具有基本上平行于第一方向取向的电流导体的至少两个第二线圈组件单元,和其中位移装置包括控制装置,所述控制装置配置成通过用多相系统驱动线圈组件单元来控制第二部分相对于第一部分的位置,其中,当第二部分主要沿第二方向移动时,控制单元配置成通过仅使用第一线圈组件单元沿第三方向将第二部分悬浮离开第一部分。
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