[发明专利]可调制的聚焦环和利用该聚焦环调节等离子处理器的方法

摘要

本发明公开了一种可调制的聚焦环，该聚焦环设为环形结构，其环绕套设在晶圆外侧壁，该聚焦环和晶圆一起设置在基座的顶面上；该聚焦环还连接有温度调节装置；该聚焦环中掺杂有阻抗调节材料，该阻抗调节材料的阻抗随温度变化而改变。本发明的聚焦环连接有温度调节装置，同时在聚焦环中掺杂有导电体或非导电体的阻抗调节材料，通过温度调节装置调节聚焦环的温度，利用阻抗调节材料其阻抗随温度变化的特性，使聚焦环的阻抗随着温度变化而变化，调节聚焦环的阻抗，从而调整晶圆边缘和聚焦环上等离子体的密度分布，实现打在晶圆表面上等离子体的密度分布均匀化，提高晶圆刻蚀的工艺质量。

主权项

一种可调制的聚焦环，该聚焦环（3）设为环形结构，其环绕套设在晶圆（1）外侧壁，所述的聚焦环（3）和晶圆（1）一起设置在基座（2）的顶面上；其特征在于，该聚焦环（3）还连接有温度调节装置（4），用于调节所述聚焦环（3）的温度；所述的聚焦环（3）中掺杂有阻抗调节材料, 该阻抗调节材料的阻抗随温度变化。