[发明专利]化学放大负性抗蚀剂组合物和图案形成方法

摘要

提供了一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)可溶于碱的基础聚合物，(B)酸产生剂和(C)含氮化合物，所述基础聚合物(A)在酸催化作用下变为碱不溶性。包括在侧链上具有氟化羧酸鎓盐的聚合物作为基础聚合物。用平版印刷法加工该负性抗蚀剂组合物可以形成抗蚀图案，其具有均匀的低酸扩散，LER改善和基材毒化降低的优点。

主权项

1.一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)可溶于含水碱性显影剂的基础聚合物，(B)能够产生酸催化剂的酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，所述作为组分(A)的基础聚合物在有或没有交联剂存在下，在酸催化剂作用下变为碱不溶性，其中包括以下聚合物作为所述基础聚合物的至少一部分，所述聚合物包含具有通式(1)氟化羧酸鎓盐的重复单元，并具有1,000至50,000的重均分子量，其中R¹是衍生自能够提供可聚合单体聚合活性的基础骨架的结构，其由以下通式任何一种表示：其中结构中从氧原子延伸的价键表示与W¹的键，R²是氟或氟烷基，W¹是二价有机基，和Q⁺是通式(a)或(b)的硫鎓阳离子，或通式(c)的碘鎓阳离子：其中R³，R⁴和R⁵各自独立是取代或未取代、直链或支化C₁-C₁₀烷基、烯基或氧代烷基，或取代或未取代的C₆-C₁₈芳基、芳烷基或芳基氧代烷基，或R³，R⁴和R⁵中的至少两个可以与硫原子一起键合成环，其中R⁶是取代或未取代、直链、支化或环状的C₁-C₂₀烷基或烯基，或取代或未取代的C₆-C₁₄芳基，m是1至5的整数，n是0或1，R⁶可具有在其上取代的羰基、羟基、酯结构、内酯结构、氨基、酰胺基或醚键氧原子，其中R⁶是取代或未取代、直链、支化或环状的C₁-C₂₀烷基或烯基，或取代或未取代的C₆-C₁₄芳基，m是1至5的整数，n是0或1，R⁶可具有在其上取代的羰基、羟基、酯结构、内酯结构、氨基、酰胺基或醚键氧原子。