[发明专利]多晶硅纳米线太阳能电池及其制备方法无效
申请号: | 201110143760.4 | 申请日: | 2011-05-31 |
公开(公告)号: | CN102227002A | 公开(公告)日: | 2011-10-26 |
发明(设计)人: | 王庆康;万霞;王阳培华;李翔;胡克想 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/02;H01L31/04;H01L31/18 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人: | 王毓理 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种太阳能电池技术领域的多晶硅纳米线太阳能电池及其制备方法,该多晶硅纳米线太阳能电池包括:由上而下依次设置的复合层栅电极、透明ITO导电薄膜层、氮化硅钝化抗反射层、n型硅纳米线阵列、p型硅基底和金属背电极,透明ITO导电薄膜层、氮化硅钝化抗反射层和n型硅纳米线阵列均为方波结构。本发明通过伽伐尼置换方法,采用多晶硅纳米线阵列作为太阳能电池的吸收层,并通过沉积氮化硅钝化抗反射层和ITO薄膜,在常温常压下,制备大面积多晶硅纳米线,制备得到的多晶硅纳米线太阳能电池,提高了太阳能电池光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 多晶 纳米 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种多晶硅纳米线太阳能电池,其特征在于,包括:由上而下依次设置的复合层栅电极、透明ITO导电薄膜层、氮化硅钝化抗反射层、n型硅纳米线阵列、p型硅基底和金属背电极,其中:透明ITO导电薄膜层、氮化硅钝化抗反射层和n型硅纳米线阵列均为方波结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的