[发明专利]单片式金属氧化半导体场效应晶体管-萧特基二极管元件无效

专利信息
申请号: 201110147085.2 申请日: 2011-05-27
公开(公告)号: CN102800670A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 郑谦兴 申请(专利权)人: 硕颉科技股份有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种单片式金属氧化半导体场效应晶体管-萧特基二极管元件,包括芯片、金属氧化半导体场效应晶体管、萧特基二极管以及终端结构。芯片分为晶体管区、二极管区与终端区。金属氧化半导体场效应晶体管设置于晶体管区上。萧特基二极管设置于二极管区上。终端结构设置于终端区,其中终端区分隔晶体管区与二极管区,且金属氧化半导体场效应晶体管与萧特基二极管共享终端结构。
搜索关键词: 单片 金属 氧化 半导体 场效应 晶体管 萧特基 二极管 元件
【主权项】:
一种单片式金属氧化半导体场效应晶体管‑萧特基二极管元件,包括:一芯片,分为一晶体管区、一二极管区与一终端区;一金属氧化半导体场效应晶体管,设置于该晶体管区上;一萧特基二极管,设置于该二极管区上;以及一终端结构,设置于该终端区,其中该终端区分隔该晶体管区与该二极管区,且该金属氧化半导体场效应晶体管与该萧特基二极管共享该终端结构。
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