[发明专利]Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统无效

专利信息
申请号: 201110150171.9 申请日: 2011-06-07
公开(公告)号: CN102226266A 公开(公告)日: 2011-10-26
发明(设计)人: 阮洪良;阮泽云 申请(专利权)人: 福莱特光伏玻璃集团股份有限公司;上海福莱特玻璃有限公司
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22;C23C14/56;C23C14/18;C03C17/09
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 王敏杰
地址: 314001 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及Low-E玻璃的真空镀膜操作中的设备,特别是一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统。它包括负压室,其特征在于:该负压室具有一入口闸门,该入口闸门前具有基片输送带;该负压室上具有进气阀和真空抽气口,该真空抽气口连接到负压形成装置上。它主要解决现有将基片人工输入负压室并进行抽真空操作的工作效率较低,影响生产效率的技术问题,它可将该工位的工作节拍提高到28秒/节拍,提高了生产效率。
搜索关键词: low 玻璃 真空镀膜 操作 中将 输入 负压室 系统
【主权项】:
一种Low‑E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统,它包括负压室(1),其特征在于:该负压室(1)具有一入口闸门(10),该入口闸门(10)前具有基片输送带(2);该负压室(1)上具有进气阀(11)和真空抽气口,该真空抽气口连接到负压形成装置上。
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