[发明专利]对金属熔体进行测量和采样的测量探针有效
申请号: | 201110151250.1 | 申请日: | 2011-06-02 |
公开(公告)号: | CN102288740A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | D·拜恩斯;D·-J·奈叶恩斯 | 申请(专利权)人: | 贺利氏电子耐特国际股份公司 |
主分类号: | G01N33/20 | 分类号: | G01N33/20;G01N1/10 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾红霞;彭会 |
地址: | 比利时*** | 国省代码: | 比利时;BE |
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摘要: | 本发明涉及一种在金属熔体中进行测量和采样的测量探针,所述测量探针具有布置在吹管上的测量头,所述测量头带有至少一个温度传感器和采样室,所述采样室至少部分被所述测量头包围并且包括延伸穿过所述测量头的吸入管道,所述吸入管道包括在所述测量头内延伸的内部部分并且至少在位于所述内部部分中的一个位置处具有长度L和最小直径D,比值L/D2小于0.6mm-1。 | ||
搜索关键词: | 金属 进行 测量 采样 探针 | ||
【主权项】:
一种在金属熔体中进行测量和采样的测量探针,所述测量探针具有布置在吹管上的测量头,所述测量头带有至少一个温度传感器和采样室,所述采样室至少部分被所述测量头包围并且包括延伸穿过所述测量头的吸入管道,所述吸入管道包括在所述测量头内延伸的内部部分并且至少在位于所述内部部分中的一个位置处具有长度L和最小直径D,其特征在于,比值L/D2小于0.6mm‑1。
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