[发明专利]光纤阵列组件凹槽基板的制造方法无效
| 申请号： | 201110158388.4 | 申请日： | 2011-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN102243437A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 卫勇 | 申请（专利权）人： | 扬中市华瑞通讯仪器有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 镇江京科专利商标代理有限公司 32107 | 代理人： | 夏哲华 |
| 地址： | 212200 江苏省镇*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及光通讯元件的制造技术，具体是一种光纤阵列组件凹槽基板的制造方法。该方法包括以下步骤：a.在石英材料上涂一层抗蚀剂保护层，并均胶、烘干；b.在石英材料上盖上掩模母板，进行紫外曝光；c.显影去除抗蚀剂保护层透光部分，清洗干净烘干；d.采用氟化铵缓冲溶液湿法腐蚀抗蚀剂保护层中透光的部分；e.腐蚀深度至30±10μm处，拿出清洗干净；f.将石英材料放进烘箱做抗蚀剂保护层坚膜；g.再腐蚀石英玻璃深至45um～62um之间；h.使用有机溶剂，去除抗蚀剂保护层；i.磨倒角、分切形成石英凹槽基板。本发明制造精度高、成本低、产品良率高、可形成大深度V型槽。 | ||
| 搜索关键词： | 光纤 阵列 组件 凹槽 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光纤阵列组件凹槽基板的制造方法，其特征是：它依次包括以下步骤，a.在清洗干净的石英材料上涂一层抗蚀剂保护层，并均胶、烘干；b.在完成上述步骤的石英材料上盖上掩模母板，进行紫外曝光;c.显影去除抗蚀剂保护层透光部分，清洗干净烘干；d.采用浓度40%的氟化铵缓冲溶液湿法腐蚀抗蚀剂保护层中透光的部分；e.腐蚀深度至30 ±10μm处，拿出清洗干净；f.将石英材料放进烘箱做抗蚀剂保护层坚膜，温度为120～148℃，时长10～30分钟；g.再腐蚀石英玻璃深至45μm～62μm之间；h.使用有机溶剂，去除抗蚀剂保护层；i.磨倒角，用切割机将其分切成小块，最后形成石英凹槽基板。
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