[发明专利]基底清洁系统和方法有效
| 申请号： | 201110159759.0 | 申请日： | 2011-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN102463237A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 郑炳和;金广男 | 申请（专利权）人： | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 薛义丹;韩明星 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基底清洁系统和方法，所述基底清洁系统包括：运送单元，具有用于运送基底的多个辊，其中，所述多个辊中的每个辊包括辊轴和结合到辊轴的多个分隔辊，多个辊轴中相邻的辊轴之间的间隙大于所述多个分隔辊中的每个分隔辊的半径；第一冲洗单元，沿所述运送单元设置，并被构造成将第一清洁液施加到所述基底上；清洁单元，包括狭缝喷嘴并被构造成在基底与所述第一冲洗单元相遇之后将第二清洁液涂覆到所述基底上。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 清洁 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种基底清洁系统，所述基底清洁系统包括：运送单元，包括用于运送基底的多个辊，其中，所述多个辊中的每个辊包括辊轴和结合到辊轴的多个分隔辊，多个辊轴中相邻的辊轴之间的间隙大于所述多个分隔辊中的每个分隔辊的半径；第一冲洗单元，沿所述运送单元设置，并被构造成将第一清洁液施加到所述基底上；清洁单元，包括狭缝喷嘴并被构造成在基底与所述第一冲洗单元相遇之后将第二清洁液涂覆到所述基底上。
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