[发明专利]用于测量表面未对准和角度未对准的设备

摘要

本发明公开了一种用于测量表面未对准和角度未对准的设备。通过第一衍射光栅，相对于第一表面的光轴的波前传播角度不同的两个圆锥形通量被施加到第一表面。通过第二衍射光栅，相对于第二表面的光轴的波前传播角度不同的两个圆锥形通量被施加到第二表面。分析由从第一表面反射的通量和基准光束形成的两组干涉条纹以获得第一表面相对于光轴的表面未对准和角度未对准。类似地，分析由从第二表面反射的通量和基准光束形成的两组干涉条纹以获得第二表面相对于光轴的表面未对准和角度未对准。从第一和第二表面的测量结果获得样品透镜的表面未对准和角度未对准。

主权项

一种用于测量样品的两个样品表面之间的表面未对准和角度未对准的设备，所述样品表面中的每一个都具有旋转对称的弯曲部分，所述设备包括：测量光束转换元件，所述测量光束转换元件用于将测量光束转换成第一偏转通量和第二偏转通量，并将所述第一偏转通量和所述第二偏转通量输出到所述样品，所述第一偏转通量被垂直入射在所述样品表面的第一区域上，并作为第一反射通量从所述第一区域被反射，所述第二偏转通量被垂直入射在所述样品表面的第二区域上，并作为第二反射通量从所述第二区域被反射，所述测量光束转换元件输出所述第一反射通量和所述第二反射通量，所述第一偏转通量和所述第二偏转通量相对于所述测量光束转换元件的光轴具有不同的波前传播角度；干涉仪测量光学系统，所述干涉仪测量光学系统用于输出所述测量光束并形成第一干涉条纹和第二干涉条纹，所述第一干涉条纹由基准光束和来自所述测量光束转换元件的第一反射通量的干涉形成，所述第二干涉条纹由所述基准光束和来自所述测量光束转换元件的所述第二反射通量的干涉形成；成像单元，所述成像单元用于使所述第一干涉条纹和所述第二干涉条纹成像；和分析单元，所述分析单元用于根据为所述两个样品表面中的每一个获得的所述第一干涉条纹和所述第二干涉条纹的相位信息分析所述表面未对准和所述角度未对准。