[发明专利]悬喷式MOCVD反应器有效

专利信息
申请号: 201110160623.1 申请日: 2011-06-15
公开(公告)号: CN102234792A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 颜秀文;李加军;贾京英 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C30B25/16
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 马强
地址: 410111 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明涉及一种能够用于大批量LED外延生长的悬喷式MOCVD反应器,包括喷嘴、基座、盖板、导流孔和反应区,喷嘴置于基座中心,喷嘴包括上喷嘴和下喷嘴,下喷嘴位于上喷嘴下部,且上喷嘴和下喷嘴分别设有两个径向通道;所述基座包括大石墨盘,所述大石墨盘内沿圆周方向设有小石墨盘,各小石墨盘内沿圆周方向设有晶片衬底,大石墨盘底部设有公转驱动机构,各小石墨盘底部设有自转驱动机构;反应区腔体内壁沿圆周方向设有导流孔。本发明作为一种悬喷式MOCVD反应器,可提高薄膜沉积的均匀性和源材料利用率,延长基座石墨盘寿命,还可改进源气体引入和载气的分布,优化反应器尺寸和盖板曲面设计,抑制涡流的产生。
搜索关键词: 悬喷式 mocvd 反应器
【主权项】:
一种悬喷式MOCVD反应器,包括喷嘴(1)、基座(19)、盖板(11)、导流孔(18)和反应区(2),其特征在于,所述喷嘴(1)置于基座(19)中心,喷嘴包括上喷嘴(7)和下喷嘴(8),下喷嘴(8)位于上喷嘴(7)下部,且上喷嘴和下喷嘴分别设有两个径向通道;所述基座(19)包括大石墨盘(3),所述大石墨盘(3)内沿圆周方向设有小石墨盘(4),各小石墨盘(4)内沿圆周方向设有晶片衬底(6),大石墨盘(3)底部设有公转驱动机构(20),各小石墨盘(4)底部设有自转驱动机构(22);反应区腔体内壁沿圆周方向设有导流孔(18)。
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