[发明专利]悬喷式MOCVD反应器有效
申请号: | 201110160623.1 | 申请日: | 2011-06-15 |
公开(公告)号: | CN102234792A | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
发明(设计)人: | 颜秀文;李加军;贾京英 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C30B25/16 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明涉及一种能够用于大批量LED外延生长的悬喷式MOCVD反应器,包括喷嘴、基座、盖板、导流孔和反应区,喷嘴置于基座中心,喷嘴包括上喷嘴和下喷嘴,下喷嘴位于上喷嘴下部,且上喷嘴和下喷嘴分别设有两个径向通道;所述基座包括大石墨盘,所述大石墨盘内沿圆周方向设有小石墨盘,各小石墨盘内沿圆周方向设有晶片衬底,大石墨盘底部设有公转驱动机构,各小石墨盘底部设有自转驱动机构;反应区腔体内壁沿圆周方向设有导流孔。本发明作为一种悬喷式MOCVD反应器,可提高薄膜沉积的均匀性和源材料利用率,延长基座石墨盘寿命,还可改进源气体引入和载气的分布,优化反应器尺寸和盖板曲面设计,抑制涡流的产生。 | ||
搜索关键词: | 悬喷式 mocvd 反应器 | ||
【主权项】:
一种悬喷式MOCVD反应器,包括喷嘴(1)、基座(19)、盖板(11)、导流孔(18)和反应区(2),其特征在于,所述喷嘴(1)置于基座(19)中心,喷嘴包括上喷嘴(7)和下喷嘴(8),下喷嘴(8)位于上喷嘴(7)下部,且上喷嘴和下喷嘴分别设有两个径向通道;所述基座(19)包括大石墨盘(3),所述大石墨盘(3)内沿圆周方向设有小石墨盘(4),各小石墨盘(4)内沿圆周方向设有晶片衬底(6),大石墨盘(3)底部设有公转驱动机构(20),各小石墨盘(4)底部设有自转驱动机构(22);反应区腔体内壁沿圆周方向设有导流孔(18)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的