[发明专利]一种金属有机物化学气相沉积设备的热吹扫结构无效
申请号: | 201110166314.5 | 申请日: | 2011-06-20 |
公开(公告)号: | CN102839358A | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
发明(设计)人: | 李刚;孙仁君 | 申请(专利权)人: | 上海永胜半导体设备有限公司 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18 |
代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人: | 林俭良 |
地址: | 201616*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种金属有机物化学气相沉积设备的热吹扫结构,包括反应腔、设置在反应腔内的载盘、支撑载盘的载盘支撑、设置在载盘下侧的加热体、在加热体下侧设置的热屏蔽层、接入吹扫气体的进气通路、以及排出吹扫气体的出气通路。加热体设置在热屏蔽层与载盘底部之间的加热空间内;进气通路接入吹扫气体送至加热空间后,并沿水平方向扩散后经出气通路排出。吹扫气体从进气通路直接进入加热空间,并沿水平方向扩散后,经出气通路排出,吹扫气体较易覆盖整个加热体,从而达到对加热体的有效保护,并且吹扫气体在加热体上的流动有利于载盘的温度均匀性的提高,而且对于整个工艺制成结束后,有效地缩短了降温时间,提高了效率,降低了成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 有机物 化学 沉积 设备 热吹扫 结构 | ||
【主权项】:
一种金属有机物化学气相沉积设备的热吹扫结构,包括反应腔、设置在所述反应腔内的载盘、支撑所述载盘的载盘支撑、以及设置在所述载盘下侧的加热体;其特征在于,还包括在所述加热体下侧设置的热屏蔽层、接入吹扫气体的进气通路、以及排出吹扫气体的出气通路;所述加热体设置在所述热屏蔽层与所述载盘底部之间的加热空间内;所述进气通路接入吹扫气体送至所述加热空间后,并沿水平方向扩散后经所述出气通路排出。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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